Obsah:
- Definícia - Čo znamená extrémna ultrafialová litografia (EUVL)?
- Techopedia vysvetľuje extrémnu ultrafialovú litografiu (EUVL)
Definícia - Čo znamená extrémna ultrafialová litografia (EUVL)?
Extrémna ultrafialová litografia (EUVL) je pokročilá, vysoko presná litografická technika, ktorá umožňuje výrobu mikročipov s vlastnosťami dostatočne malými na podporu rýchlosti 10 GHz.
EUVL využíva vysoko nabitý xenónový plyn, ktorý vyžaruje ultrafialové svetlo, a používa veľmi presné mikro zrkadlá na zaostrenie svetla na kremíkovú doštičku, aby sa dosiahla ešte jemnejšia šírka prvku.
Techopedia vysvetľuje extrémnu ultrafialovú litografiu (EUVL)
Naproti tomu technológia EUVL využíva ultrafialový zdroj svetla a šošovky na zaostrenie svetla. Nie je to také presné kvôli obmedzeniu šošoviek.
Proces EUVL je nasledujúci:
- Laser je nasmerovaný na xenónový plyn, ktorý ho zahrieva a vytvára plazmu.
- Plazma vyžaruje svetlo pri 13 nanometroch.
- Svetlo sa zhromažďuje v kondenzátore a potom nasmeruje na masku, ktorá obsahuje rozloženie dosky s plošnými spojmi. Maska je vlastne iba vzorová reprezentácia jednej vrstvy čipu. To sa vytvára nanesením absorbéra na niektoré časti zrkadla, ale nie na iné časti, čím sa vytvorí schéma obvodu.
- Vzor masky sa odráža na sérii štyroch až šiestich zrkadiel, ktoré sa postupne zmenšujú, aby zmenšili veľkosť obrázka pred zameraním na kremíkovú doštičku. Zrkadlo mierne ohýba svetlo, aby sa vytvoril obraz, podobne ako pri práci s objektívmi fotoaparátu, ktoré ohýbajú svetlo a kladú obrázok na film.
